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平面罐體拋光機(jī)的磨粒大小影響拋光質(zhì)量
添加時(shí)間:2017-06-16
  很多拋光工作者認(rèn)為,平面罐體拋光機(jī)磨粒粒徑越小對拋光越好,其實(shí),這也不是絕對的。拋光磨粒只有達(dá)到一個(gè)最佳值時(shí)才能達(dá)到最佳拋光效果。并不是越小效果就越好。有時(shí)候太小了會(huì)適得其反,一般來說,磨粒尺寸越小,所加工的工件表面粗糙度值越小,但對于固著磨料拋光,磨粒尺寸太小,容易使磨具上的工作面被加工過程產(chǎn)生的磨屑堵塞,至使加工過程無法繼續(xù)進(jìn)行。
    磨粒的大小在平面罐體拋光機(jī)的運(yùn)用中非常重要,關(guān)系到工件的最終研磨效果,磨粒主要是指拋光液,拋光盤里面的顆粒成分,還有水蒸氣顆粒等。這些細(xì)小的顆粒是構(gòu)成研磨運(yùn)動(dòng)的主要介質(zhì)。顆粒的材質(zhì),大小,粒徑都是拋光過程中非常重要的,選擇合適的材質(zhì),大小,粒徑的拋光顆粒可以提高拋光效率,完善拋光效果,降低生產(chǎn)成本。
前兩種方法提供客觀的或定量的檢驗(yàn)。粗糙度檢驗(yàn)記錄儀可提供表面結(jié)構(gòu)完整的記錄,但因?yàn)檠b飾性的效果是以人的感覺作為評判的,所以在實(shí)際檢測時(shí)反射率的測量結(jié)果會(huì)得到更多的認(rèn)同。對于非常光滑的表面,測量拋光表面反射率是恰當(dāng)?shù)?,但拋光表面產(chǎn)生的強(qiáng)烈刺目的光會(huì)妨礙表面反射率的測量,因此反射率的測量有時(shí)也難作為質(zhì)量檢驗(yàn)的標(biāo)準(zhǔn)。與標(biāo)樣進(jìn)行對照的方法雖然帶有很大的主觀性,但它仍然是拋光質(zhì)量最常用的檢驗(yàn)方法。
 
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